一種低折射率全介質(zhì)平面透鏡的制作方法與流程

發(fā)布時(shí)間:

2021-03-12

背景技術(shù)：

在幾何光學(xué)框架下，傳統(tǒng)光學(xué)成像透鏡受到嚴(yán)格幾何關(guān)系限制，需要依賴透鏡表面形狀和天然的光學(xué)材料來(lái)實(shí)現(xiàn)折反射成像，導(dǎo)致光學(xué)透鏡設(shè)計(jì)自由度低、體積質(zhì)量大，不利于光電子技術(shù)及應(yīng)用的集成化、輕量化和微型化發(fā)展需求。隨著納米制備技術(shù)的發(fā)展，光學(xué)成像技術(shù)則再次迎來(lái)了新的飛躍。光學(xué)超構(gòu)表面能夠?qū)崿F(xiàn)納米尺度下的精準(zhǔn)光場(chǎng)調(diào)控，包括波長(zhǎng)、振幅、相位、偏振等等。與傳統(tǒng)光學(xué)透鏡相比，由納米結(jié)構(gòu)組成的平面透鏡，結(jié)合了傳統(tǒng)光學(xué)成像技術(shù)與現(xiàn)代光學(xué)超材料技術(shù)，具有調(diào)控自由度高、光學(xué)特性豐富、輕量化和集成化程度高等明顯的優(yōu)勢(shì)。

雖然借由微納技術(shù)，光學(xué)平面透鏡能具有重量輕、厚度極薄等特點(diǎn)，但其所使用的材料大多為金屬或高折射率介質(zhì)材料，如金和硅，所適用波長(zhǎng)集中在近紅外波段，對(duì)可見(jiàn)光吸收相當(dāng)大，可見(jiàn)光區(qū)域透過(guò)率低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明為克服上述現(xiàn)有技術(shù)由微納技術(shù)制得的光學(xué)平面透鏡使用的材料大多為金屬或高折射率介質(zhì)材料，對(duì)可見(jiàn)光吸收相當(dāng)大，可見(jiàn)光區(qū)域透過(guò)率低的技術(shù)問(wèn)題，提供一種低折射率全介質(zhì)平面透鏡的制作方法。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種低折射率全介質(zhì)平面透鏡的制作方法，包括以下步驟：

S1：在由折射率不小于2.5的低折射率介質(zhì)柱狀結(jié)構(gòu)構(gòu)成低折射率全介質(zhì)材料中選擇介質(zhì)襯底材料、透鏡結(jié)構(gòu)材料；

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